光解除臭設(shè)備的組成成分有硫化氫(H2S)、氨、四硫醇等

 

光解除臭設(shè)備的組成成分為硫化氫(H2S)、氨、四硫醇污水和污泥，主要來源于腐爛。部分H2S氧化空氣中的二氧化硫，空氣中30%的二氧化硫通常被硫化氫轉(zhuǎn)化。避免不***氣味影響周圍環(huán)境，減少異味。許多小型污水處理廠都設(shè)置了生物除臭措施。常用的方法有化學(xué)吸收法、生物法和土壤法。

 

化學(xué)吸收法主要通過化學(xué)堿液吸收空氣中的硫化氫污染物。除臭罐和由除臭裝置組成的再生塔。罐的直徑與高度之比通常約為1.5。用于臭氣收集的通風(fēng)真空磚機(jī)底部的罐通過風(fēng)道進(jìn)入除臭罐。使用濃度為2%至2%的碳酸鈉溶液作為氣體吸收器。這種方法的***點是治療效果***，運(yùn)行穩(wěn)定，抗沖擊負(fù)荷能力強(qiáng)，缺點是定期更換藥液的運(yùn)行成本較高。通過生物方法。